आईबीडी प्रणाली

यह आयन बीम जमाव उपकरण एक उच्च परिशुद्धता वाली पतली फिल्म जमाव प्रणाली है जिसे इन्फ्रारेड डिवाइस निर्माण में धातु के तार और ओमिक संपर्क पतली फिल्मों की तैयारी के लिए डिज़ाइन किया गया है। इसे वेफर सतहों पर Cr, Pt, Au, Cu, Ti, Ag और अन्य धातुओं की उच्च गुणवत्ता वाली पतली फिल्मों को जमा करने के लिए इंजीनियर किया गया है, जो ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में महत्वपूर्ण संपर्क परतों के निर्माण के लिए एक विश्वसनीय और कुशल समाधान प्रदान करता है।

उच्च आसंजन फिल्म जमाव: सहायक जमाव तकनीक के साथ एक दोहरे आयन स्रोत आर्किटेक्चर को अपनाता है, जो जमा की गई पतली फिल्मों के आसंजन को महत्वपूर्ण रूप से बढ़ाता है, जिससे डिवाइस संपर्क परतों की दीर्घकालिक स्थिरता और विश्वसनीयता सुनिश्चित होती है।

सटीक तापमान नियंत्रण: एक विस्तृत श्रेणी की वेफर स्टेज तापमान नियंत्रण प्रणाली (10 डिग्री ~ 80 डिग्री) की सुविधा है, जो फिल्म की गुणवत्ता और एकरूपता को अनुकूलित करने के लिए जमाव तापमान के सटीक विनियमन को सक्षम करती है।

लचीले जमाव कोण: एक बहु-कोण वर्कपीस स्टेज डिज़ाइन से सुसज्जित, जो विभिन्न उपकरण संरचना और प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुकूल, विभिन्न कोणों पर पतली फिल्म जमाव आवश्यकताओं को पूरा कर सकता है।

उत्कृष्ट प्रक्रिया एकरूपता: बेहतर फिल्म मोटाई की एकरूपता (वेफर के भीतर और वेफर्स के बीच ±5% से बेहतर) प्रदान करता है, जिससे पूरे वेफर और बैच से {{1} से लेकर बैच पुनरुत्पादन तक लगातार प्रदर्शन सुनिश्चित होता है।

बड़ी प्रसंस्करण संगतता: 8 इंच तक के वेफर आकार का समर्थन करता है, उद्योग में मुख्यधारा के वेफर विनिर्देशों के साथ संगत, मध्यम और बड़े पैमाने के उपकरणों की उत्पादन आवश्यकताओं को पूरा करता है।

उपकरण का मुख्य रूप से उपयोग किया जाता हैइन्फ्रारेड डिवाइस उद्योग, विशेष रूप से धातु के तार और ओमिक संपर्क पतली फिल्मों की तैयारी के लिए। यह वेफर सतहों पर विभिन्न धातु सामग्रियों (सीआर, पीटी, एयू, सीयू, टीआई, एजी) के लिए पतली फिल्म जमाव आवश्यकताओं को पूरा करता है, उच्च प्रदर्शन वाले अवरक्त ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक घटकों के उत्पादन का समर्थन करता है।

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