उत्पाद अवलोकन
हमारा RIE Etcher 12{{1}इंच (रिएक्टिव आयन Etcher) सटीक ड्राई नक़्क़ाशी उपकरण है जिसे हमने स्वतंत्र रूप से विकसित किया है, जिसे विशेष रूप से उन्नत सूक्ष्म {{4}नैनो प्रसंस्करण के लिए तैयार किया गया है। इसके मूल में, यह रासायनिक प्रतिक्रिया तंत्र के साथ भौतिक आयन बमबारी को मिश्रित करता है, अंततः उस मुश्किल "सटीक नियंत्रण संतुलन" बाधा को तोड़ता है जो लंबे समय से पारंपरिक नक़्क़ाशी तकनीक से ग्रस्त है। इसमें उत्कृष्ट अनिसोट्रोपिक नक़्क़ाशी क्षमता और अति उच्च सामग्री चयनात्मकता है, जो इसे सेमीकंडक्टर विनिर्माण, एमईएमएस विकास और ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक डिवाइस उत्पादन के लिए मुख्य प्रक्रिया उपकरण बनाती है। चाहे आप उच्च-स्तरीय प्रयोगशाला अनुसंधान कर रहे हों या औद्योगिक बड़े पैमाने पर उत्पादन बढ़ा रहे हों, यह श्रृंखला स्थिर, विश्वसनीय प्रक्रिया समाधान प्रदान करती है जिस पर आप भरोसा कर सकते हैं।
अनुप्रयोग
- सेमीकंडक्टर विनिर्माण: हम इसका उपयोग फ्रंट{0}एंड ट्रांजिस्टर पैटर्निंग, बैक{1}एंड टीएसवी नक़्क़ाशी, और एसओआई सब्सट्रेट प्रोसेसिंग के लिए करते हैं, जो कुल मिलाकर सिकुड़ती चिप प्रक्रियाओं के लिए होना चाहिए।
- एमईएमएस डिवाइस विकास: यह माइक्रो-सेंसर, एक्चुएटर्स और फ्लुइडिक चिप्स की सटीक प्रसंस्करण करता है, सिलिकॉन और पॉलिमर पर 3 डी संरचनाओं (20: 1 पहलू अनुपात तक) को विश्वसनीय रूप से उकेरता है।
- ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग: ऑप्टिकल वेवगाइड्स, एलईडी एपिटैक्सियल वेफर्स, फोटोडिटेक्टर्स के लिए काम करता है -तंग संरचना नियंत्रण प्रकाश दक्षता को बढ़ाता है।
- नैनोटेक्नोलॉजी अनुसंधान: एएलई तकनीक के साथ जोड़ी, यह 2डी सामग्री (ग्रैफीन, एमओएस₂) और नैनो{3}पैटर्न के लिए परमाणु स्तर की सामग्री को अत्यधिक विश्वसनीय रूप से हटाती है।
लाभ
यूनी-बॉडी डिज़ाइन अवधारणा:
फ़ुट-प्रिंट बकाया (संदर्भ 1.0मी* 1.0मी)
यूनिफ़ॉर्म चैम्बर सेंटर पंप-नीचे:
बेहतर प्रक्रिया प्रदर्शन
शावरहेड गैस फ़ीड-में, भी कॉन्फ़िगर किया जा सकता है:
निर्भरता से पूर्व निर्धारित पैरामीटर के रूप में ट्यून किया गया
प्लाज्मा डिस्चार्ज गैप को कॉन्फ़िगर किया जा सकता है:
निर्भरता से पूर्व निर्धारित पैरामीटर के रूप में ट्यून किया गया
लागत या प्रदर्शन अभिविन्यास वैकल्पिक:
आवश्यकताओं के आधार पर आरएफ, पंप, मान आदि
नमूना प्रबंधन वैकल्पिक:
ओपन करें{{0}लोड करें या लोड करें{{1}लॉक करें
पैरामीटर
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विनिर्देश |
पैरामीटर |
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वेफर आकार सीमा |
4,6,8,12 इंच या मल्टी-वेफर्स वैकल्पिक |
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नक़्क़ाशी सामग्री |
Si-आधारित(Si/SiO2/SiNx/SiC/क्वार्ट्ज आदि), यौगिक |
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वैक्यूम |
टीएमपी एवं मैकेनिकल पंप |
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आरएफ़ पावर |
पूर्ण रेंज 300-1000W, वैकल्पिक |
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गैस प्रणाली |
4 लाइनें (मानक) या अनुकूलित |
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वेफर कूलिंग |
वाटर कूलिंग या बैकसाइड कूलिंग वैकल्पिक |
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वेफर स्टेज |
-70 डिग्री से 200 डिग्री तक, वैकल्पिक |
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गैर-एकरूपता |
±5% से कम (किनारे बहिष्करण) |
अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
RIE Etcher 12-इंच किस प्रकार की सामग्रियों को संसाधित कर सकता है?
यह Si{0}} आधारित सामग्रियों, मिश्रित अर्धचालकों, 1D&2D सामग्रियों, धातुओं आदि को कवर करता है, और संबंधित सामग्रियों के विफलता विश्लेषण का भी समर्थन करता है।
कौन से वेफ़र आकार समर्थित हैं?
विशेष आकारों के लिए अनुकूलित समाधान उपलब्ध होने के साथ, 4/6/8/12-इंच वेफर्स और मल्टी-वेफर प्रसंस्करण के साथ संगत।
नक़्क़ाशी एकरूपता क्या है?
गैर-एकरूपता है<±5% after edge exclusion, ensuring full-wafer processing consistency.
वेफ़र चरण की तापमान सीमा क्या है?
वैकल्पिक -70 डिग्री से 200 डिग्री, कम तापमान से लेकर उच्च तापमान नक़्क़ाशी प्रक्रियाओं की आवश्यकताओं को पूरा करता है।
मानक विन्यास में कितनी गैस लाइनें हैं, और क्या इसे अनुकूलित किया जा सकता है?
मानक विन्यास में 4 गैस लाइनें शामिल हैं, जिन्हें जटिल प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित और विस्तारित किया जा सकता है।
आरएफ पावर रेंज क्या है?
मांग पर चयन योग्य, 300-1000W की पूरी श्रृंखला को कवर करता है।
नमूना प्रबंधन के तरीके क्या हैं?
दो विकल्प प्रदान करता है: ओपन {{0}लोड और लोड{{1}लॉक, विभिन्न उत्पादन दक्षता और पर्यावरण नियंत्रण आवश्यकताओं के अनुकूल।
कौन सा वैक्यूम सिस्टम सुसज्जित है?
नक़्क़ाशी के लिए आवश्यक स्थिर वैक्यूम वातावरण सुनिश्चित करने के लिए टीएमपी टर्बोमोलेक्यूलर पंप और मैकेनिकल पंप के संयोजन को अपनाता है।
क्या उपकरण रखरखाव सुविधाजनक है?
एकीकृत डिज़ाइन आंतरिक संरचना को सरल बनाता है, प्रमुख घटकों को बनाए रखना आसान होता है, जिससे डाउनटाइम और रखरखाव की कठिनाई कम हो जाती है।
क्या प्लाज्मा डिस्चार्ज गैप को समायोजित किया जा सकता है?
सटीक नक़्क़ाशी नियंत्रण प्राप्त करने के लिए इसे प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुसार पूर्व निर्धारित पैरामीटर के रूप में कॉन्फ़िगर और समायोजित किया जा सकता है।
क्या यह लागत-उन्मुख या प्रदर्शन-उन्मुख कॉन्फ़िगरेशन विकल्पों का समर्थन करता है?
दोनों कॉन्फ़िगरेशन का समर्थन करता है; लागत को संतुलित करने या प्रदर्शन में सुधार करने के लिए आरएफ बिजली आपूर्ति, पंप और वाल्व जैसे प्रमुख घटकों को मांग पर चुना जा सकता है।
क्या वेफर शीतलन विधि को अनुकूलित किया जा सकता है?
दो विकल्पों का समर्थन करता है: वॉटर कूलिंग और हे बैकसाइड कूलिंग, विशेष आवश्यकताओं के लिए अनुकूलित समाधान उपलब्ध हैं।
लोकप्रिय टैग: री एचर 12-इंच, चीन री एचर 12-इंच निर्माता, आपूर्तिकर्ता
